Ein Forschungsteam der Johns Hopkins University hat in der Fachzeitschrift *Nature Chemical Engineering* eine neuartige Mikrochip-Herstellungstechnologie veröffentlicht. Diese Forschung eröffnet durch innovative Materialien und Verfahren einen neuen Weg zur Entwicklung kleinerer und effizienterer Mikrochips. Die Mikrochip-Technologie kann in Mobiltelefonen, Automobilen und verschiedenen elektronischen Geräten eingesetzt werden.

Forschern ist es gelungen, mithilfe eines neuartigen chemischen Flüssigphasenabscheidungsverfahrens (CLD) präzise dünne Schichten metallorganischer Materialien auf Siliziumwafern abzuscheiden. Das Team entdeckte, dass Kompositmaterialien aus Metallen wie Zink und organischen Verbindungen auf Imidazolbasis effektiv auf extreme ultraviolette Strahlung (B-EUV) reagieren und dadurch nanostrukturierte Schaltkreise charakterisieren können. Das CLD-Verfahren ermöglicht eine kontrollierte Schichtdicke und ist für die Massenproduktion geeignet.
Professor Michael Zapacsis erklärte: „Die Zukunft der Mikrochip-Herstellung erfordert neue Verfahren, die sowohl präzise Bestrahlung als auch wirtschaftliche Effizienz gewährleisten. Unsere Entdeckung metallorganischer Materialkombinationen eröffnet neue Möglichkeiten für die Weiterentwicklung der Mikrochip-Technologie.“ Forscher haben bereits mit der Kombination von mehr als zehn Metallen mit Hunderten von organischen Verbindungen experimentiert, um die Strahlungsreaktionseigenschaften zu optimieren.
Diese Forschungsarbeit entstand in Zusammenarbeit zwischen der Johns Hopkins University, der East China University of Science and Technology, der EPFL und weiteren Institutionen. Die neuartige Fotolacktechnologie dürfte innerhalb des nächsten Jahrzehnts in der industriellen Fertigung Anwendung finden und die Entwicklung der Mikrochip-Technologie hin zu immer kleineren Abmessungen vorantreiben.
Weitere Informationen: Spin-Coating-Abscheidung von amorphen Zeolith-Imidazolester-Gerüstfilmen für photolithographische Anwendungen, *Nature Chemical Engineering* (2025). Zeitschrifteninformationen: *Nature Chemical Engineering*

















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