HPBC2.0-Technologie TaiRay-Siliziumwafer + HPBC2.0-Technologie hat einen maximalen Wirkungsgrad von 27 %, ein Durchbruch von 1 % absoluter Effizienz in der letzten Generation von Premium-Siliziumzellen
Keine Angst vor hohen Temperaturen
Leistungstemperaturkoeffizient -0,26 %/℃ Bessere Leistung bei der Stromerzeugung bei hohen Temperaturen
Anti-Schatten-Okklusion und lokaler Überhitzungsschutz
Keine Angst vor Schatten und geringerer Leistungsverlust
Verhindern Sie lokale Überhitzung und beseitigen Sie Brandgefahren
Die OBB-Technologie entwickelt auf innovative Weise eine OBB-Struktur ohne Gitterlinien auf der Vorderseite und ohne Hauptgitter auf der Rückseite
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TaiRay-Serie Hi-Mo X10
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China
Nr. 8369, Shangyuan Road, Wirtschafts- und Technologieentwicklungszone Xi'an
+86 4008601012
Produktbeschreibung
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