Nearfield Instruments aus den Niederlanden schließt Finanzierungsrunde der Serie D in Höhe von 380 Millionen US-Dollar ab

de.wedoany.com-Bericht: Das auf fortschrittliche 3D-Metrologie und Prozesskontrolle für Halbleiter spezialisierte Unternehmen Nearfield Instruments hat den Abschluss einer Finanzierungsrunde der Serie D in Höhe von 380 Millionen US-Dollar bekannt gegeben. Die Unternehmensbewertung beläuft sich auf 1,6 Milliarden US-Dollar. Diese Finanzierungsrunde stellt den größten Rekord für eine Finanzierung im niederländischen Deep-Tech-Bereich dar.

Die Finanzierungsrunde wurde von dem neuen Investor Fidelity Management & Research Company angeführt. Beteiligt haben sich die bestehenden Investoren Temasek, Walden Catalyst Ventures, Innovation Industries, M&G und Invest-NL. Der katarische Staatsfonds Qatar Investment Authority (QIA) beteiligte sich als neuer Investor, und auch die bestehenden Investoren TNO Ventures und ING haben an der Überzeichnung teilgenommen.

Nearfield plant, die eingeworbenen Mittel zu nutzen, um die Innovations-Roadmap zu beschleunigen, weltweit Anwendungs-Kompetenzzentren (Centers of Excellence) einzurichten und die Produktionskapazitäten erheblich auszubauen. Gleichzeitig soll das globale Kundensupport-Team gestärkt und die gemeinsame Forschung und Entwicklung mit globalen Halbleiterherstellern ausgeweitet werden. Nearfield bietet die entscheidenden Messtechnologien, die für High-NA-EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet), GAA (Gate-All-Around), CFET (Complementary Field-Effect Transistor)-Architekturen sowie die 3D-Integration durch Hybrid Bonding erforderlich sind. Diese Technologien spielen eine Schlüsselrolle für die Skalierbarkeit, Energieeffizienz, Fertigungsfreundlichkeit und Zuverlässigkeit der nächsten Generation von KI-Berechnungen. Hamed Sadeghian, CEO von Nearfield, erklärte, dass diese Finanzierungsrunde die zunehmende strategische Bedeutung von Metrologie- und Inspektionstechnologien im Zeitalter der KI-getriebenen Halbleiterinnovation unterstreiche. Nearfield biete innovative Metrologie- und Inspektionslösungen für Halbleiterbauelemente der nächsten Generation und unterstütze seine Kunden gleichzeitig mit höchster Umsetzungsstärke, Zuverlässigkeit und Geschwindigkeit, um sich als weltweit führendes Technologieunternehmen in der Branche zu positionieren.

Son Young-kwon, Gründungsgeschäftsführer von Walden Catalyst Ventures, erklärte, dass Nearfield sich an der Schnittstelle zweier großer industrieller Veränderungen befinde: der rasanten Ausweitung von KI und dem zunehmend komplexen Wandel hin zu 3D-Halbleiterarchitekturen. Während die Halbleiterindustrie in eine entscheidende neue Phase eintrete, würden fortschrittliche Metrologie und Inspektion zu Kernelementen für die Innovation der nächsten Generation von Chips. Man werde das Wachstum von Nearfield voll und ganz unterstützen.

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