de.wedoany.com-Bericht: Das Empa-Spin-off Swiss Cluster hat den Schweizer Wirtschaftspreis 2026 (Swiss Economic Award) in der Kategorie „Industrie/Produktion“ gewonnen. Das Unternehmen ist auf die Entwicklung von Vakuum-Dünnschichtanlagen spezialisiert, die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) mit Atomlagenabscheidung (ALD) integrieren. Diese schützen komplexe Bauteile oder stellen funktionelle Schichten mit hervorragenden mechanischen Eigenschaften und Hitzebeständigkeit her. Zu den Kunden zählen globale Forschungseinrichtungen, die Uhrenindustrie, Elektronikhersteller und Unternehmen aus dem Optikbereich.
Swiss Cluster mit Sitz in Spiez wurde von den Materialwissenschaftlern Carlos Guerra und dem Elektroingenieur Kevin Lücke im Labor für Materialmechanik und Nanostrukturen der Empa unter der Leitung von Johann Michler gegründet und Ende 2020 in Thun bei der Empa ins Leben gerufen. Das Unternehmen konzentrierte sich zunächst auf die Entwicklung widerstandsfähigerer und langlebigerer Dünnschichten. Derzeit beschäftigt Swiss Cluster in Spiez 15 Mitarbeiter und wird von einem globalen Partnernetzwerk unterstützt. Die Maschinen werden in Forschungseinrichtungen und Unternehmen in der Schweiz, den USA und Großbritannien eingesetzt, und Aufträge für Lieferungen nach Frankreich, Brasilien, Italien und China sind bereits vorbereitet.
Die Dünnschichttechnologie findet breite Anwendung, darunter der Schutz empfindlicher Bauteile vor Verschleiß und Korrosion, die Reduzierung von Linsenreflexionen, die Herstellung spezieller Filter, die Verleihung von Farbwechseln an Uhrenteile, die Verbesserung der Biokompatibilität medizinischer Implantate sowie die Herstellung von Transistoren, Chips und Displays in der Mikroelektronik. Ein gängiges Verfahren zur Herstellung von Dünnschichten ist die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), bei der Ausgangsmaterial in einer Vakuumkammer verdampft und auf einem Substrat kondensiert wird. Swiss Cluster kombiniert PVD mit Atomlagenabscheidung (ALD). Anders als bei PVD erfolgt bei ALD durch abwechselndes Einleiten gasförmiger Vorläufer eine chemische Reaktionsbeschichtung mit atomarer Präzision. ALD wird seit etwa 20 Jahren in der Industrie eingesetzt und ist ein relativ neues Verfahren.
Carlos Guerra, CEO von Swiss Cluster, erklärt, dass ALD extrem dünne und gleichmäßige Beschichtungen ermöglicht, die Korrosions- und Oxidationsschutz bieten, während PVD extrem harte Schichten erzeugt. Die Kombination beider Verfahren ermöglicht die Herstellung von langlebigen, hitze- und korrosionsbeständigen Dünnschichten. Das Unternehmen integriert ALD- und PVD-Systeme in einer einzigen Vakuumkammer, sodass Forscher Nanoschichtstrukturen, die zuvor eine Woche benötigten, nun in wenigen Stunden fertigstellen können.
Swiss Cluster ist nicht das erste Unternehmen, das PVD und ALD kombiniert; diese Kombination wird bereits in der Halbleiterindustrie eingesetzt. Guerra betont jedoch, dass sich Swiss Cluster auf andere Branchenmärkte konzentriert. Für Kunden, die nur am ALD-Verfahren interessiert sind, bietet das Unternehmen eine zweite Maschine an, die „Batch-ALD“ ermöglicht – eine Variante der Atomlagenabscheidung, die schneller ist und gleichzeitig mehrere Komponenten oder große, komplexe Bauteile beschichten kann. Die Maschinen von Swiss Cluster sind kompakt, einfach zu installieren und zu bedienen und zielen darauf ab, die Hürden für Hightech-Verfahren zu senken. Das Unternehmen bietet in Spiez auch Beschichtungsdienstleistungen an und arbeitet eng mit Kunden zusammen, damit diese Beschichtungsverfahren testen können, ohne sofort in eine neue Maschine investieren zu müssen. Seit der Gründung waren Kunden beteiligt; das Wachstum erfolgte organisch hauptsächlich durch den Verkauf von Anlagen und Dienstleistungen. Erst 2025 erhielt das Unternehmen seine erste Investition. Die Jury des Schweizer Wirtschaftsforums lobte das Spin-off für die Kombination aus wissenschaftlicher Exzellenz, Branchenverständnis und unternehmerischer Umsetzungskraft.
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