de.wedoany.com-Bericht: Die Hangzhou Yu Zhi Quan Precision Instruments Co., Ltd. (Yu Zhi Quan) hat in Zusammenarbeit mit dem Nationalen Schlüssellabor für Extremoptik und -instrumente der Zhejiang-Universität kürzlich den „10.000-Kanal-3D-Nano-Laser-Direktschreib-Belichter“ vorgestellt. Dieses Gerät bietet grundlegende technologische Unterstützung für die Halbleiter- und Mikro-Nano-Fertigung, darunter hochwertige Fotomaske, photonische Chips und Metasurfaces.
Yu Zhi Quan wurde im Dezember 2022 gegründet, der Hauptsitz befindet sich in Hangzhou, China. Die Gründungsgesellschafter setzen sich aus Wissenschaftlern mit langjähriger Forschungserfahrung in der Optik und Unternehmern mit umfassender Managementerfahrung zusammen. Das Unternehmen widmet sich der Lösung der nationalen „Engpass“-Probleme in der Fotolithografie-Technologie.
Obwohl die Zwei-Photonen-Laser-Direktschreib-Technologie eine hohe Bearbeitungsgenauigkeit bietet, ist sie aufgrund der physikalischen Grenzen des Einzelstrahl-Scannings nur schwer in der Lage, die Anforderungen einer großflächigen, effizienten industriellen Produktion zu erfüllen. Das Forschungsteam von Yu Zhi Quan schlug ein „10.000-Kanal-Schnell-Steuerungsschema mit unabhängiger Regelung“ vor, das sofort über 10.000 unabhängig steuerbare parallele Laserfoki erzeugen kann. In Kombination mit einem intelligenten globalen Optimierungsalgorithmus wird die Gleichmäßigkeit der Lichtintensität des Fokus-Arrays auf über 95 % verbessert, wodurch der Effizienzengpass des herkömmlichen Einzelstrahl-Scannings durchbrochen wird.
Das Gerät zeichnet sich durch herausragende Leistung aus: Die extrem hohe Schreibgeschwindigkeit erreicht über 200 Millionen Voxel pro Sekunde; unter bestimmten Prozessbedingungen kann die minimale Strukturgröße unter 50 nm liegen; die 2D-Flächen-Scanrate beträgt 40 mm²/min, ein Vielfaches der herkömmlichen Technologie, und die maximale Bearbeitungsfläche kann einen 12-Zoll-Wafer vollständig abdecken.
Neben der Anwendung in der hochwertigen Mikro-Nano-Fertigung von Fotomaske, wie z. B. Photonik-Masken, DOE-Masken und MEMS-Masken, eignet sich das Gerät auch für kundenspezifische, kleinserien- und schnell iterierende Prozessanforderungen. Zu den Anwendungsszenarien gehören photonische Chips und fortschrittliche Verpackungen, die die Entwicklung kundenspezifischer, kleinserien- und hochpräziser Chips unterstützen; MEMS-Sensoren und mikrofluidische Bauelemente, die eine schnelle Formgebung komplexer dreidimensionaler Mikrostrukturen ermöglichen; sowie Präzisionsoptikkomponenten, die die strengen Anforderungen von optischen Sicherheitsmerkmalen und der optischen Kommunikation, wie z. B. Metalinsen und DOE-Komponenten, erfüllen.
Das Gerät bietet zudem eine zentrale Fertigungsausrüstung für die Massenproduktion in zukunftsweisenden Bereichen wie Metasurfaces. Metasurfaces sind Kernkomponenten für zukünftige AR/VR-, LiDAR- und 6G-Kommunikationstechnologien. Die herkömmliche Bearbeitung dauert oft Wochen, während die 10.000-Kanal-Technologie die Bearbeitungszeit drastisch auf wenige Stunden reduzieren kann. Derzeit sind Metasurfaces die erste Anwendungskategorie des Geräts, die deutliche Vorteile aufweist und die Kommerzialisierung dieser zukunftsweisenden Industrien vorantreibt.
