de.wedoany.com-Bericht: Am 3. August erhielt ein US-amerikanisches Start-up den „Genesis Mission"-Preis des US-Energieministeriums, ein Programm, das das Ministerium zur Förderung des Einsatzes von KI in Wissenschaft und Technik ins Leben gerufen hat. Das Unternehmen plant, mit Röntgenlithografie-Technologie die Monopolstellung von ASML (ASML Holding) bei High-End-Lithografiemaschinen herauszufordern.
Zunächst einmal, wie beeindruckend ASML ist: Eine Extrem-Ultraviolett-EUV-Lithografiemaschine (das Kernstück zum „Aufdrucken von Schaltkreisen" auf Chips, nur dieses niederländische Unternehmen kann die modernsten Modelle weltweit herstellen) kostet 400 Millionen US-Dollar (etwa 2,7 Milliarden Yuan), besteht aus über 100.000 Teilen und die jährlichen Forschungs- und Entwicklungsausgaben belaufen sich auf 5 Milliarden US-Dollar.
Dieses kleine Unternehmen mit Hauptsitz in San Francisco namens Inversion Semiconductor verfolgt jedoch einen anderen Ansatz: Mit Hochleistungslasern wird ein Gas (möglicherweise Wasserstoff oder Helium) erhitzt, um ein extrem heißes Plasma zu erzeugen, das Elektronen in einer Magnetstruktur mit hoher Geschwindigkeit oszillieren lässt und Licht emittiert.
Dieses Licht hat eine kürzere Wellenlänge und liegt näher an Röntgenstrahlen. Es kann 500 Millionen Pulse pro Sekunde erzeugen, während ASML 50.000 Mal pro Sekunde auf Zinntröpfchen schießt – ein Unterschied um den Faktor 10.000.
Der Firmengründer zog einen Vergleich: ASMLs Licht strahlt wie eine Glühbirne in alle Richtungen und muss mit teuren Spiegeln gebündelt werden, während ihr Licht wie ein Laser hell und gerichtet ist – viel einfacher.
Mit diesem Konzept hat das Unternehmen bereits 500.000 US-Dollar (etwa 3,38 Millionen Yuan) an Pre-Seed-Finanzierung von Y Combinator und Entrepreneur First erhalten und zusätzlich 750.000 US-Dollar (etwa 5,07 Millionen Yuan) an staatlichen Fördermitteln (gemeinsam mit dem Lawrence Berkeley National Laboratory) gewonnen.
Doch diese Herausforderung liegt noch in weiter Ferne. Das Unternehmen räumt selbst ein, dass es noch Jahre dauern wird, bis eine Test-Lithografiemaschine gebaut werden kann. Der verwendete Laser wurde zwar von der Größe mehrerer Fußballfelder auf etwa 30 Meter Länge und 5 bis 10 Meter Breite verkleinert, bleibt aber dennoch ein Koloss.
Sollte der Ansatz jedoch tatsächlich funktionieren und ASMLs Monopol brechen, könnte die Chipfertigung 15-mal schneller werden – das würde bedeuten, dass Chips reichlicher verfügbar und möglicherweise günstiger wären. Das wäre eine echte Revolution.
