de.wedoany.com-Bericht: Das Anlagen- und Materialunternehmen KC Tech treibt die Kommerzialisierung einer speziell für die fortschrittliche Halbleiterfertigung entwickelten überkritischen Reinigungsanlage voran, die bereits die Evaluierung durch SK Hynix bestanden hat. Berichten zufolge ist dieses System technisch äußerst anspruchsvoll und wird derzeit nur von wenigen Unternehmen kommerziell genutzt. Neben dem japanischen Unternehmen Tokyo Electron (TEL) und der Samsung-Electronics-Tochter SEMES könnte der Markteintritt von KC Tech die bestehende Angebotsstruktur aufbrechen.
Wie SK Hynix am 15. Juni mitteilte, hat KC Tech zwischen Ende letzten Jahres und Anfang dieses Jahres erfolgreich den Gerätebewertungsprozess des Unternehmens durchlaufen. Die frühestmögliche Lieferung der Anlagen wird für die zweite Jahreshälfte erwartet. Branchenkreisen zufolge könnten sich Großaufträge auf die erste Fabrik von SK Hynix in Yongin (Yongin Fab 1) konzentrieren, wo die Installation der Anlagen voraussichtlich im Februar nächsten Jahres beginnen soll. Bisher bezog SK Hynix überkritische Reinigungsanlagen ausschließlich von TEL. Da die SEMES-Anlagen nur von Samsung Electronics genutzt werden, hatte SK Hynix nur begrenzte Alternativlieferanten. Berichten zufolge hatte SK Hynix nach der weltweit ersten Kommerzialisierung des überkritischen Reinigungssystems durch SEMES im Jahr 2017 Gespräche über einen möglichen Einkauf geführt.
Der Markteintritt von KC Tech wird voraussichtlich die Struktur der Lieferkette verändern. Ein Branchenkenner erklärte, dass das Aufkommen eines neuen Anbieters SK Hynix bei Preisverhandlungen mit TEL mehr Verhandlungsspielraum verschaffen werde. Schätzungen zufolge liegt der Stückpreis der KC-Tech-Anlage bei etwa 10 Milliarden KRW und damit deutlich über dem Preis herkömmlicher Geräte wie CMP- und Nassreinigungsanlagen. Das Unternehmen könnte damit eine neue, hochwertige Einnahmequelle erschließen.
Überkritisch bezeichnet einen physikalischen Zustand, den ein Stoff oberhalb seiner kritischen Temperatur und seines kritischen Drucks erreicht. In diesem Zustand weist der Stoff sowohl Eigenschaften einer Flüssigkeit als auch eines Gases auf. Überkritische Materialien können Rückstände und Verunreinigungen auf dem Wafer wie eine Flüssigkeit lösen und gleichzeitig wie ein Gas in feine Strukturen eindringen, um Partikel in engen Zwischenräumen zu entfernen. Herkömmliche Wafer-Reinigungssysteme trocknen Chemikalien durch Rotation des Wafers. Mit dem Fortschreiten der DRAM-Prozesstechnologie in den 10-Nanometer-Bereich werden die Abstände zwischen den Strukturen jedoch enger und die Höhenunterschiede größer, was bei der Rotations-trocknung in manchen Prozessschritten zu Verbiegungen oder Verklebungen der Strukturen führen kann. Überkritische Reinigungssysteme verwenden dagegen unter hohem Druck stehende überkritische Materialien zur Trocknung der Chemikalien, ohne den Wafer zu rotieren, und ermöglichen so eine Reinigung ohne Beschädigung feiner Strukturen.
KC Tech hat die Anlage in Zusammenarbeit mit SK Hynix rund fünf Jahre lang entwickelt. Schätzungen zufolge wurden dafür Material- und F&E-Personalkosten in Höhe von mehreren zehn Milliarden KRW aufgewendet. Berichten zufolge zögerten einige Mitarbeiter in der Anfangsphase des Projekts aus Angst vor einem Scheitern, doch das Unternehmen entschied sich letztlich für die Weiterverfolgung und die Zielerreichung. SK Hynix beschleunigt seine DRAM-Expansionspläne. SK-Group-Chef Chey Tae-won erklärte kürzlich, dass das Unternehmen auf Basis der Erwartung einer bis 2030 anhaltenden Speicherknappheit plane, die gesamte Wafer-Produktionskapazität innerhalb von fünf Jahren „mit voller Kraft" zu verdoppeln. Das Unternehmen hat zudem die Inbetriebnahme des ersten Reinraums in der Yongin Fab 1 von Mai 2027 auf Februar 2027 vorgezogen. Der Zeitpunkt der erfolgreichen Tests der neuen KC-Tech-Anlage fällt genau in den Expansionszyklus von SK Hynix, was die Erwartungen an Großaufträge weiter steigen lässt.
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